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Fakultät für Ingenieurwissenschaften

Lehrstuhl Metallische Werkstoffe – Prof. Dr.-Ing. Uwe Glatzel

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Nano-Analytik-Labor

TRANSMISSIONSELEKTRONENMIKROSKOP ZEISS, LIBRA 200 FEEinklappen
Gerät:

Transmissionselektronenmikroskop Zeiss Libra 200 FE

Hersteller:Zeiss
Daten:

In-column OMEGA energy filter
Dry differential vacuum system
200 kV field emission gun; Koehler illumination
2048 x 2048 slowscan CCD camera
Thermo Electron (NSS) EDX-detector, 136eV resolution (Mn)
STEM detector

Beschaffung:  03/2006
​RASTERELEKTRONENMIKROSKOP 1540ESB CROSS BEAMEinklappen
Gerät:

Rasterelektronenmikroskop 1540EsB Cross Beam

Hersteller:Zeiss
Daten:

Auflösung: 1,0 nm (15 kV); 1,7 nm (1 kV);
4,0 nm (0,1 kV)
Beschleunigungsspannung: 0,1-30 kV
Thermo Noran System Six EDX-System
Focused Ion Beam Auflösung 6 nm
Gas-Injektions System zur Abscheidung von SiO2, W, Pt
sowie Fluor und H2O

Beschaffung:  02/2005
HOCHTEMPERATUR RÖNTGENDIFFRAKTOMETER BRUKER, D8 ADVANCEEinklappen
Gerät:

Hochtemperatur Röntgendiffraktometer Bruker D8 ADVANCE

Hersteller:Bruker AXS
Daten:

Bragg-Brentano-Geometrie
2,2 kW Cu-Anode
Ge-Kα1-Monochromator (Johansson Prinzip)
Hochtemperaturkammer HTK 1200-N für Messungen bis 1200 °C im Vakuum, unter Inertgas oder diversen anderen Gasen
1D-Lynxeye-Detektor

Beschaffung:  03/2013
​MIKRORÖNTGENFLUORESZENZANALYSENGERÄTEinklappen
Gerät:

Mikroröntgenfluoreszenzanalysengerät Orbis PC mit SDD Detektor

Hersteller:Ametek
Daten:

Betriebsspannung 10kV -50 kV (mit 1 mA/ 50W) 
Filter: Rh, Nb, Ni, Ti, Al 250 µm, Al 25 µm
Auflösung untersuchter Bereich: ca. 30 µm

Beschaffung:  04/2013
​LASERFLASH LFA 427Einklappen
Gerät:

Laserflash LFA 427

Hersteller:Netzsch
Daten:

Bestimmung der Temperaturleitfähigkeit fester Stoffe im
Bereich von 0,001 cm2/s bis 10cm2/s
Temperaturbereich: 25°C bis 2000°C

Beschaffung:  02/2005
​GLIMMENTLADUNGSSPEKTROMETEREinklappen
Gerät:

GDOES mit 750 mm Optik

Hersteller:Spectruma
Daten:

Quantitative Tiefenprofilanalyse und Bulkanalyse bis in eine
Tiefe von ca. 100 µm
22 Photomultiplier-Kanäle (Auflösung von 1 ppm zum Teil
möglich): H, B, C, N, O, Mg, Al, Si, P, S, Ti, Cr, Fe, Ni,
Cu, Zn, Y, Zr, Mo, W, Pt, Co
CCD- und HF-Option

Beschaffung:  04/2002
​RÖNTGENDURCHLEUCHTUNGSANLAGE MU 21 FEinklappen
Gerät:

Röntgendurchleuchtungsanlage MU 21 F

Hersteller:Philips
Daten:

Röntgengrobstrukturuntersuchungen
Röntgengrobröhre: bis 225kV 15mA
Feinfocusröhre: bis 160kV 50µA

Beschaffung:  12/1997
​DSC 204Einklappen
Gerät:

DSC 204

Hersteller:Netzsch
Daten:

Dynamisches Wärmestrom-Differenz-Kalorimeter für einen
Temperaturbereich von -170°C bis 700°C
Heizraten: 0,1K/min bis 99,9K/min
Empfindlichkeit: 3µV/mW bis 3,5µV/kW

Beschaffung:  08/1999
​SCHUBSTANGEN-DILATOMETER DIL 402Einklappen
Gerät:

Schubstangen-Dilatometer DIL 402

Hersteller:Netzsch
Daten:

Thermomechanische Analyse bis 500°C
Messbereich. 50µm/500µm/5000µm
Anpresskraft: 15cN
Auflösung: max. 1,25nm/Digit

Beschaffung:  02/1998
​PROFILOMETER C5DEinklappen
Gerät:

Profilometer C5D

Hersteller:Perthen
Daten:

Profilometer zur Bestimmung der Rauhtiefe

Beschaffung:  02/1997
LIFT-OUT TOOL FÜR TEM-LAMELLENEinklappen
Gerät:

Mikromanipulator MM3A-EM

Hersteller:Kleindiek
Daten:

Arbeitsbereich Z: 12 mm, X und Y: 240°
Auflösung Z: 0,5 nm, X und Y: 5 nm
Geschwindigkeit Z: 2 mm/s, X und Y: 10 mm/s

Beschaffung:  04/2005
GERÄTE ZUR TEM-PROBENPRÄPARATION Einklappen

Elektrolytisches Dünngerät Tenupol-3, Gatan Dimple Grinder, Gatan Ionenmühle

​NADELZIEHGERÄT NARISHIGE PC-10 (für Glasnadeln)Einklappen

derzeit keine weiteren Informationen vorhanden


Verantwortlich für die Redaktion: Beate Heinz-Deuerling

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