Nano Analytics Lab

Transmissionselektronenmikroskop Zeiss Libra 200 FE

Rasterelektronenmikroskop 1540EsB Cross Beam

Auflösung: 1,0 nm (15 kV); 1,7 nm (1 kV);
4,0 nm (0,1 kV)
Beschleunigungsspannung: 0,1-30 kV
Thermo Noran System Six EDX-System
Focused Ion Beam Auflösung 6 nm
Gas-Injektions System zur Abscheidung von SiO2, W, Pt
sowie Fluor und H2O

Hochtemperatur Röntgendiffraktometer Bruker D8 ADVANCE

Bragg-Brentano-Geometrie
2,2 kW Cu-Anode
Ge-Kα1-Monochromator (Johansson Prinzip)
Hochtemperaturkammer HTK 1200-N für Messungen bis 1200 °C im Vakuum, unter Inertgas oder diversen anderen Gasen
1D-Lynxeye-Detektor

Betriebsspannung 10kV -50 kV (mit 1 mA/ 50W) 
Filter: Rh, Nb, Ni, Ti, Al 250 µm, Al 25 µm
Auflösung untersuchter Bereich: ca. 30 µm

Laserflash LFA 427

Bestimmung der Temperaturleitfähigkeit fester Stoffe im
Bereich von 0,001 cm2/s bis 10cm2/s
Temperaturbereich: 25°C bis 2000°C

GDA-Alpha

CCD-Optik, spektrale Auflösung > 0.022nm, Wellenlängenbereich 150 - 520nm,
Nachweisgrenze von 0.1 ppm - 50 ppm

Röntgendurchleuchtungsanlage MU 21 F

Röntgengrobstrukturuntersuchungen
Röntgengrobröhre: bis 225kV 15mA
Feinfocusröhre: bis 160kV 50µA

DSC 204

Dynamisches Wärmestrom-Differenz-Kalorimeter für einen
Temperaturbereich von -170°C bis 700°C
Heizraten: 0,1K/min bis 99,9K/min
Empfindlichkeit: 3µV/mW bis 3,5µV/kW

Schubstangen-Dilatometer DIL 402

Thermomechanische Analyse bis 1500°C
Messbereich. 50µm/500µm/5000µm
Anpresskraft: 15cN
Auflösung: max. 1,25nm/Digit

Profilometer C5D

Mikromanipulator MM3A-EM

Arbeitsbereich Z: 12 mm, X und Y: 240°
Auflösung Z: 0,5 nm, X und Y: 5 nm
Geschwindigkeit Z: 2 mm/s, X und Y: 10 mm/s